半导体设备洁净工厂

‌半导体设备工厂的洁净标准主要包括以下几个方面‌：

1. ‌洁净度要求‌：半导体设备工厂的洁净度标准极高，通常要求车间内每立方米的空气中尘埃粒子数控制在极低的范围内。例如，百级洁净室的标准是每立方米空气中0.5微米的尘埃粒子数不超过3520颗。洁净度等级的划分应符合现行国家标准《洁净厂房设计规范》(GB 50073)的规定‌2。

2. ‌温湿度控制‌：温度和湿度的控制也非常关键。一般要求温度控制在22℃±2℃范围内，相对湿度控制在45%-55%之间。过高或过低的温度和湿度都可能影响生产过程的稳定性和产品质量‌23。

3. ‌空气净化系统‌：空气净化系统是确保洁净度的核心部分，包括初效过滤器、中效过滤器、高效过滤器（HEPA）以及紫外线杀菌器等设备，这些设备能有效去除空气中的尘埃、微粒、细菌和病毒等污染物‌14。

4. ‌正压控制‌：洁净区与非洁净区之间、洁净区与室外的压差不应小于5Pa，以确保洁净区的空气不会外泄‌25。

5. ‌材料选择‌：墙面、地面和天花板应采用不易积尘、易于清洁的材料，如不锈钢板、铝板、PVC地板、环氧自流平地坪等。门窗应采用密封性好的材料，以防止外界空气和尘埃的侵入‌14。

6. ‌振动和噪音控制‌：半导体生产过程中对振动和噪音的控制也非常重要。车间地板必须是防震的，设备需要有良好的隔音措施，以减少对生产过程的影响‌3。

7. ‌静电控制‌：静电的产生和放电可能对半导体设备造成破坏，因此需要采取防静电地板、防静电工作服、离子风扇等设备来控制静电的产生‌34。

8. ‌化学污染控制‌：半导体生产过程中需要控制化学污染，如氨、酸、碱、硫化物等有害化学物质，需要通过空气净化设备进行处理‌3。