光学微电子洁净室

近几年来，因技术的创新发展，对于产品的高精密度化、细小型化的需求越发迫切，如超大型积体电路之研究制造，已成为世界各国在科技发展上极为重视的项目。按行业标准要求，净化级别从 10-30 万级。净化的程度也直接影响了电子产品制作的质量。

一、光学微电子净化工程一般包括哪些功能分区：

1.洁净生产区

2.管理区（包括办公、值班、管理和休息等）

3.洁净辅助间（包括人员净化用房、物料净化用室和部分生活用室等）

二、电子洁净实验室净化标准参数：

根据电子洁净室（区）空气洁净级别，不同等级净化标准如下：

① 百级电子洁净室尘粒（≥0.5μm）最大允许数为3500每立方米、≥0.5μm尘粒数为0、微生物最大允许数浮游菌为5每立方米、沉降菌为1。

② 千级电子洁净室尘粒（≥0.5μm）最大允许数为350000每立方米、≥0.5μm尘粒数为2000、微生物最大允许数浮游菌为100每立方米、沉降菌为3。

③ 十万级电子洁净室尘粒（≥0.5μm）最大允许数为3500000每立方米、≥0.5μm尘粒数为20000、微生物最大允许数浮游菌为500每立方米、沉降菌为10。

④ 三十万级电子洁净室尘粒（≥0.5μm）最大允许数为10500000每立方米、≥0.5μm尘粒数为60000、微生物最大允许数浮游菌为1000每立方米、沉降菌为15。

三、光学微电子净化工程换气参数

1. 换气次数：十万级净化≥15次；万级净化≥20次；千级净化≥30次

2. 平均风速：10级、100级为0.3-0.5m/s

3. 噪声：≤65dB(A)

4. 新风补充量：新风补充量是总风量的10%-30%

5. 照度：300LX